RGDL系列真空氣氛管式爐廣泛用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制，試驗用碳纖維碳化、晶體硅板鍍膜、納米氧化鋅結構可控生長等等，也可用于金屬材料的擴散焊接及真空或氣氛保護下的熱處理。

采用精煉石英管或高純高于管作為爐膛，可拆卸的密封方式，具有良好的潔凈度和真空度，耐火保溫材料全部采用先進的輕質纖維制品，整機質量輕、低能耗。加熱元件采用優質硅鉬棒、硅碳棒或進口電阻絲；溫度控制系統采用原裝進口智能多段程序溫度控制儀控制，具有良好的穩定性、均勻性。